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美术

国巨科技艺术创作奖

分类: 美术 常识词典 编辑 : 常识 发布 : 11-08

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1999年10月创立的国巨基金会,2002年起与亚洲文化协会(Asian Cultural Council)合作设立了「国巨科技艺术创作奖」,共同赞助一名台湾艺术家,赴纽约市「Location One」科技艺术村(1996年成立,位於纽约苏活区的街上,由一幢老建物改造而成,包括一个约250平方公尺的展览场及表演厅,和6间充满高科技多媒体设备的工作室,除了拥有数位科技外,也扩充连线方式及展示的放送。),驻村进行研习进修及创作发表,以提升台湾科技艺术创作潜能,并建立国际文化之交流管道。本奖项一年进行一次甄选,获得全程的费用赞助,还提供艺术家创作所需的技术支援,驻村期间可与来自世界各国的驻村艺术家进行交流,「国巨科技艺术创作奖」理念是要培养台湾新一代科技艺术家,拓展视野、具备国际观,一方面期望协助华人当代艺术家推向世界艺术舞台,另一方面促进华人当代艺术与西方社会的对话。

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